光掩模：国产替代需求旺盛！

近年来，全球及国内晶圆生产线持续扩张，为半导体掩膜版行业带来显著增长机遇。同时，新能源汽车、消费电子等下游领域技术革新，加速了半导体掩膜 版的更新换代需求。 当前，半导体光掩模市场呈现出美日企业高度垄断的局面。根据上海涌尚实业有限公司的统计数据，2022年，在掩模版市场中，晶圆厂自有的配套掩模版工 厂占据了高达66%的市场份额。而剩余的掩模版市场，则主要由日本Toppan、美国Photronics以及日本DNP等少数几家国际巨头公司所掌控。不仅如此，掩 模版生产所需的基材、石英基板、光刻胶以及光学膜等关键材料，也同样被国外企业所垄断。 在国际贸易紧张、半导体产业逆全球化背景下，加速国产替代已成为国家战略重点。 我国光掩模制造业在中低档产品市场已取得进展，国内企业需增强研发实力，加快追赶海外厂商，以在全球市场中占据更有利地位。 一、光掩模概述 光掩模，亦称光刻掩模版或光罩，在微电子制造中扮演着图形转移母版的角色，是平板显示、半导体、触控及电路板等行业生产不可或缺的关键材料。其核 心功能在于，借助曝光技术，将设计者的电路图形精准地转移到下游行业的基板或晶圆上，从而推动批量化生产进程。作为光刻复制图形的基准与蓝本， ...