美国光刻机出口限制或迎拐点，战略博弈下再收紧风险犹存

本文基于以下微博话题的智搜结果生成 美国是否会再次限制光刻机出口，需结合当前政策动态、技术博弈和战略意图综合分析。以下是关键判 断依据及未来趋势预测： 核心判断依据 盟友利益牵制：光刻机产业链依赖全球协作（如ASML光源来自美国、镜头来自德国）。限制出口将直 接损害荷兰、韩国等盟友利益（三星/台积电在华工厂依赖ASML设备），近期美国撤销对三星、台积 电在华设备豁免的计划已引发韩方强烈抗议，政策推行阻力较大。 稀土反制威慑：中国通过稀土出口管制（尤其军用重稀土）有效反制美国产业链。若美国升级光刻机限 制，可能触发中方更严厉的资源反制，形成"伤敌一千自损八百"局面。 战术性调整可能，但非全面封锁 精准打击先进制程：美国可能维持对EUV光刻机（7nm以下）的严格禁令，但放宽成熟制程设备（如 DUV）限制。此次EDA解禁已体现该策略——仅放开28nm以上工具，3nm以下GAA架构EDA仍被禁。 动态博弈筹码：光刻机限制可能成为美国后续谈判筹码。若中国稀土出口未达美方预期，或中企在AI 芯片等赛道加速超越（如华为昇腾替代英伟达），美国可能以限制光刻机施压。 ⚠️ 需警惕的升级信号 短期松绑可能性低，但风险长期存在 技 ...