“光刻机”回复存误导性 苏大维格将被纪律处分

当天晚间，苏大维格披露了线上半年报业绩说明会纪要，其中对光刻设备问题有所回应。公告称，公司 高端智能装备包括直写光刻、3D光刻、投影/扫描光刻、纳米压印光刻设备等，部分直写光刻设备已向 国内外高校及科研院所、国内企业等销售。现阶段，公司光刻设备销售规模相对有限，部分应用领域离 国际先进水平具有一定差距，需要持续的研发投入。 更多的业务细节则在问询函回复中才揭开。10月8日晚间，苏大维格详细回复了相关问题。 据介绍，光刻技术是现代半导体、显示面板、光电子等领域的产品制造过程中不可或缺的工艺流程之 一。从曝光方式上，光刻机可以分为掩模光刻机（在运行过程中均需要使用掩模板），包括接触式/接 近式光刻机，投影式光刻机等；以及无掩模光刻机，即直写光刻机，包括电子束光刻机、激光直写光刻 机、激光直接成像设备等。半导体及平板显示制造普遍采用"直写光刻制作掩模+投影光刻批量复制"的 工艺过程。 苏大维格坦言，一般所称的光刻机是有掩模光刻机中的投影式光刻机，与公司所生产的激光直写光刻机 不属于同一技术路线。公司自2001年左右开始研发各类光刻设备，包括激光直写光刻机、纳米压印设备 等，前述设备主要用于微纳光学产品和衍射光学器件 ...