中微公司发布六款半导体设备新品，对市场拓展和业绩成长性预计产生积极影响

Primo Menova 12寸ICP单腔刻蚀设备专注于金属刻蚀领域， 擅长金属Al线、Al块刻蚀，广泛适用于功 率半导体、存储器件及先进逻辑芯片制造，是晶圆厂金属化工艺的核心设备。 在薄膜沉积设备方面，中微公司此次发布的四款新品， 包括三款原子层沉积产品以及一款外延产品。 其中推出的12英寸原子层沉积产品Preforma Uniflash金属栅系列， 涵盖 Preforma Uniflash® TiN、 Preforma Uniflash® TiAl 及 Preforma Uniflash®TaN 三大产品，能够满足先进逻辑与先进存储器件在金属 栅方面的应用需求。 外延设备方面，中微公司推出的双腔减压外延设备PRIMIO Epita® RP，作为目前市场上独有的双腔设 计外延减压设备，其反应腔体积为全球最小， 且可灵活配置多至6个反应腔，在显著降低生产成本与化 学品消耗的同时， 实现了高生产效率。 中微公司 视觉中国 资料图 9月4日晚，半导体设备龙头企业中微公司（688012.SH）公告称，近日推出六款半导体设备新产品，这 些设备覆盖等离子体刻蚀、原子层沉积及外延等关键工艺，包括两款刻蚀设备和四款薄膜沉积 ...