上海芯上微装首台 350nm 步进光刻机宣布发运，国产高端光刻家族再添新成员

核心性能亮点 高分辨率成像满足先进工艺需求，搭载大数值孔径投影物镜，结合多种照明模式与可变光瞳技术，实现 350nm 高分辨率，满足当前主流化合物半导体芯片的光刻工艺要求。 高精度套刻配置高精度对准系统，实现正面套刻 80nm，背面套刻 500nm，确保多层图形精准套刻，提升 器件良率。 IT之家 11 月 26 日消息，上海芯上微装科技股份有限公司（AMIES）昨日宣布：公司自主研发的首台 350nm 步进光刻机（AST6200）正式完成出厂调试 与验收，启程发往客户现场。 芯上微装表示，这标志着我国在高端半导体光刻设备领域再次实现关键突破！这不仅是一次产品的交付，更是国产半导体装备向高端化、自主化迈进的重 要里程碑。 据官方介绍，AST6200 光刻机是芯上微装基于多年光学系统设计、精密运动控制与半导体工艺理解积淀，倾力打造的高性能、高可靠性、全自主可控的 步进式光刻设备，专为功率、射频、光电子及 Micro LED 等先进制造场景量身定制。 ▲ 芯上微装首台 350nm 步进光刻机（AST6200） 高产率设计，显著降低拥有成本（COO）： 100% 软件自主可控打造全栈国产生态：AST6200 搭载芯 ...