国林科技：国林半导体研制臭氧发生器以及各类功能水设备可应用于存储芯片制造工艺中的清洗与薄膜沉积环节

证券日报网讯国林科技11月27日在互动平台回答投资者提问时表示，国林半导体所研制臭氧发生器以及 各类功能水设备可应用于存储芯片制造工艺中的清洗与薄膜沉积环节。 （文章来源：证券日报） ...