研究在喷涂法制备高质量钙钛矿薄膜方面获进展

【环球网科技综合报道】12月27日消息，据《焦耳》（Joule）报道，中国科学院在喷涂法制备高质量 钙钛矿薄膜方面获进展。该工作不仅在效率上将喷涂法钙钛矿器件提升至与旋涂工艺相当的水平，更在 复杂曲面制造、湿度耐受性和图案化制备潜力方面展现出独特优势，为钙钛矿光伏与光电器件在建筑、 交通及空间应用中的原位制造提供了重要技术基础。 资料显示，钙钛矿半导体作为下一代高效光伏与光电器件的核心候选材料，其产业化前景高度依赖于能 否实现高质量、大面积均匀的钙钛矿吸光层薄膜的可控制备。旋涂、刮涂和狭缝涂布等方法制备钙钛矿 薄膜，在大面积、复杂曲面沉积及图案化集成方面存在明显局限。相比之下，喷涂法因其快速、规模化 潜力及对三维表面的优异适应性，在建筑光伏、交通工具表面等场景中展现出独特优势。然而现有喷涂 工艺制备的钙钛矿薄膜存在相杂质多、晶粒取向无序和缺陷密度高等问题，致使器件性能落后，成为其 产业应用的核心瓶颈。 中国科学院青岛生物能源与过程研究所提出了一种全新的液滴限域结晶策略，通过溶剂配位结构调控， 在喷涂液滴内部构建局域高浓度前驱体体系，从结晶源头上重构喷涂过程中的成核路径。 来源：环球网 该策略利用弱配位溶剂限制 ...