国林科技:半导体专用臭氧系统设备能够产生高浓度、超纯净的臭氧
证券日报网讯2月2日,国林科技(300786)在互动平台回答投资者提问时表示,公司的半导体专用臭氧 系统设备能够产生高浓度、超纯净的臭氧,臭氧在电子工业领域被广泛用于形成CVD及ALD薄膜、氧 化物生长等工艺环节。在3D NAND存储芯片结构中,臭氧因其高氧化性、清洁效率和环保特性,能够 满足半导体制造对精度、缺陷控制和材料兼容性的严苛要求,从而实现纳米级均匀氧化层的形成。 ...
证券日报网讯2月2日,国林科技(300786)在互动平台回答投资者提问时表示,公司的半导体专用臭氧 系统设备能够产生高浓度、超纯净的臭氧,臭氧在电子工业领域被广泛用于形成CVD及ALD薄膜、氧 化物生长等工艺环节。在3D NAND存储芯片结构中,臭氧因其高氧化性、清洁效率和环保特性,能够 满足半导体制造对精度、缺陷控制和材料兼容性的严苛要求,从而实现纳米级均匀氧化层的形成。 ...