华虹半导体取得金属硅化物形成方法专利
Jin Rong Jie·2026-02-03 11:55

国家知识产权局信息显示,华虹半导体(无锡)有限公司取得一项名为"金属硅化物的形成方法"的专 利,授权公告号CN115527846B,申请日期为2022年10月。 天眼查资料显示,华虹半导体(无锡)有限公司,成立于2017年,位于无锡市,是一家以从事计算机、 通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本253685.180069万美元。通过天眼查大数据分 析,华虹半导体(无锡)有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目2944次,专利信息1986条, 此外企业还拥有行政许可117个。 声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。 本文源自:市场资讯 作者:情报员 ...

HUA HONG SEMI-华虹半导体取得金属硅化物形成方法专利 - Reportify