涂胶显影设备是半导体制造工艺中的关键设备，国产化需求旺盛，市场发展潜力巨大

1 涂胶显影设备是半导体制造工艺中的关键设备， 国产化需求旺盛，市场发展潜力巨大 汉鼎智库咨询 2024-10-18 一、什么是涂胶显影设备 涂胶显影设备是半导体制造光刻工艺中的关键设备，主要用于半导体光刻工 艺中的光刻胶涂布和显影过程。涂胶显影设备的性能直接影响到光刻工序细微曝 光图案的形成，以及显影工艺的图形质量，对后续蚀刻和离子注入等工艺中图形 转移的结果有着深刻的影响，是集成电路制造过程中不可或缺的关键处理设备。 根据不同的应用需求，涂胶显影设备可以划分为前道涂胶显影设备和后道涂胶显 影设备，前道用于晶圆制造前道工艺，后道用于封装环节中的相关工序。 半导体设备行业具有较高的技术壁垒、市场壁垒和客户认知壁垒，以美国应 用材料、荷兰阿斯麦、美国泛林集团、日本东京电子、美国科天等为代表的国际 知名企业占据了全球半导体设备市场的主要份额。目前，我国涂胶显影设备国产 化正处于加速推进阶段，但整体国产化率仍相对较低，尤其是在精度和分辨率、 工艺稳定性和可靠性、产能和效率等方面与国际先进水平相比存在一定技术差距。 但是随着国家对半导体产业的重视和支持力度不断加大，以及国内企业在技术研 发、人才培养等方面的持续投入， ...