东方晶源的“软实力”：以技术创新破局半导体制造“良率革命”

在半导体制造领域，良率始终是悬在行业头顶的达摩克利斯之剑。 尤其是随着先进制程不断逼近物理极限，行业对良率提升的诉求愈发迫切。当先进制程突破 5nm节点，每1%的良率提升都可能为晶圆厂带来超过1.5亿美元的利润增量，而低于85%的良 率则意味着工艺体系的全面失效。这种残酷的"良率算术"背后，是芯片制造复杂度指数级增长 与工艺容错空间不断收窄的现实难题。 在提升芯片良率的关键拼图里，除了备受瞩目的硬件设备发挥着重要作用外，EDA计算光刻软 件也扮演着不可或缺的角色。作为集成电路制造流程中的关键一环，计算光刻软件对提升芯片 制造良率、推动先进制程发展以及促进整个半导体产业的进步有着不可替代的重要性。 东方晶源作为国内集成电路良率管理领域的翘楚，自2014年创立起，便将破解良率难题视为己任， 凭借深厚的技术积累，精心打造出一系列功能强大的软件产品和解决方案。其涵盖 OPC/SMO优 化、反向光刻（ILT）、良率分析平台以及严格光刻仿真系统等多个方面，全方位助力客户缩短新产 品量产周期，显著提升芯片制造良率。 如今，随着计算光刻3.0时代的到来，这家拥有600余项专利的企业，正以软件技术创新为支点，为 中国半导体产业 ...