科睿迅：半导体核心材料国产化领军者，开启PVA Brush领域新篇章

点击 最 下方 " 推荐"、"赞 "及" 分享 "，"关注"材料汇 添加 小编微信 ，遇见 志同道合 的你 正文 导语 ： 在半导体产业链加速自主可控的浪潮下，科睿迅（上海）材料科技有限公司凭借突破性技术，成 为国内首家实现 CMP 后清洗晶圆刷国产化的企业。其自主研发的半导体级 PVA 清洗刷已通过国内头部 Fab 厂验证，填补了国内空白，为中国半导体材料国产化注入强劲动力。 核心技术突破：打破国际垄断的 "中国刷" 半导体制造中，CMP（化学机械抛光）后的清洗环节直接影响芯片良率，晶圆表面的纳米级污染物可能导 致芯片失效。传统硬质刷辊容易划伤晶圆，且静电吸附会引发二次污染。科睿迅核心产品 —— CMP 后清 洗 刷辊 ，采用国际领先的 PVA（聚乙烯醇）材料技术，通过发泡工艺形成多孔结构，具备三大核心优 势： 高效清洁 ： 吸水后柔软弹性的刷毛可精准移除晶圆表面颗粒污染物，同时避免划痕； 超高洁净度 ： 百级洁净室生产工艺确保刷毛无颗粒脱落，符合半导体行业严苛标准； 2024 年 9 月，科睿迅 南通经开区年产 20 万支半导体用 PVA 清洗刷项目 正式落成，这是国内首条该类 产品量产线，彻底打破 10 ...