光刻机：半导体技术之巅，国产替代空间广阔（附10+报告1000页+）

光刻机由多个子系统构成，对光学、机械等多项技术的精密度要求极高。 光刻机系统极为复杂，其中包括光源系统、光学系统、工件台/掩模台系统、自动对准系 统、调焦调平测量系统、硅片/掩模传输系统、框架/减振/环境控制系统、整机控制系统等。光刻机中的光学系统是其最关键且最复杂的部分之一，包括照明系统和 投影物镜两大核心组成部分，而物镜是光刻机实现精准成像的关键部件。而随着光刻机高端化，其零部件的加工难度也相应提升，例如德国Zeiss 公司生产的EUV 光刻机反射镜达到了原子级别的平坦度。 光刻机市场主要为海外龙头厂商垄断，国内上海微电子、长光所等布局光刻机研发。 光刻机市场呈现寡头垄断格局，前三供应商（荷兰阿斯麦、日本佳能、日本尼 康）占据绝大多数市场份额。国内上海微电子装备股份有限公司自"十五"起至今先后承担了多个国家 IC 前道光刻机研制专项任务，是国内唯一具备制造多领域、多 品种产线应用的高端光刻机供应商。而长光所自上世纪九十年代起专注于EUV/X 射线成像技术研究，着重开展了EUV 光源、超光滑抛光技术、EUV多层膜及相关 EUV 成像技术研究。 国内光刻机国产替代市场空间广阔，i-line 设备、Krf 制程 ...