投资笔记：半导体掩膜版的投资逻辑分析（含平板显示）（13634字）

点击 最 下方 " 推荐"、"赞 "及" 分享 "，"关注"材料汇 添加 小编微信 ，遇见 志同道合 的你 正文 目录 以晶圆制造为例，其制造过程需要经过多次曝光工艺，利用掩膜版的曝光掩蔽作用，在半导体晶圆表面形成栅极、源漏极、掺杂窗口、电极接触孔等。相 比较而言， 半导体掩膜版在最小线宽、 CD 精度、位置精度等重要参数方面 ，均显著高于平板显示、 PCB 等领域掩膜版产品。 掩膜版是光刻过程中的重要部件，其性能的好坏对光刻有着重要影响。根据基板材质的不同， 掩膜版主要可分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他 （包含凸版、菲林等） 。 一、什么是掩膜版： 定义、分类 二、掩膜版制造加工工艺： 关键参数量测及检测 三、掩膜版产业链： 产业链、结构与成本 四、掩膜版技术演变： OPC 和 PSM 五、半导体掩膜版： 市场及行业特征 六、平板显示掩膜版： 市场及行业特征 七、掩膜版竞争格局 八、掩膜版未来趋势 九、掩膜版重点企业介绍 一、什么是掩膜版 掩膜版（ Photomask ）又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等 ，是微电子制造过程中的图形转移工具或母版，是图形设计和工艺技术等知识产权信息的载 体。在光刻过程中，掩膜版 ...