半导体材料：光掩模的国产替代及下游应用分析（附50页PPT）

点击 最 下方 " 推荐"、"赞 "及" 分享 "，"关注"材料汇 添加 小编微信 ，遇见 志同道合 的你 正文 光掩模，即光刻掩模版，又称光罩掩模版等，是微电子制造过程中的图形转移母版，是平板显示、半导体、触控电路板等行业生产制造过程中重要的关键材料。 掩 模版的作用是将设计者的电路图形通过曝光的方式转移到下游行业的基板或晶圆上，从而实现批量化生产。作为光刻复制图形的基准和蓝本，掩模版是连接工业设 计和工艺制造的关键，掩模版的精度和质量水平会直接影响最终下游制品的优品率。 半导体光掩模市场被美日企业垄断，国产替代需求旺盛。 根据 SEMI的统计数据，2019 年在半导体芯片掩模版市场， 英特尔、三星、台积电等晶圆厂自行配套的掩 模版工厂占据 65%的份额，其它的掩模版主要被美国 Photranics、日本 DNP以及日本Toppan 三家公司所垄断 。与此同时， 掩模版基材及其石英基板、光刻胶、光 学膜等关材料同样被国外企业垄断 。 通过复盘海外龙头的发展路径，我们发现海外公司有以下共同点： 1)在行业内 深耕多年，有充分的 know-how 经验累积 ；2)在发展中，不断收购与并购光掩模相关 团队与公司， ...