芯上微装500nm-i线光刻机突进头部Fab厂：光刻机及国产分析报告

点击 最 下方 关注《材料汇》 ， 点击"❤"和" "并分享 添加 小编微信 ，寻 志同道合 的你 正文 芯上微装 根据行业调研信息， 近期芯上微装前道500nm-i线光刻机已发货至核心头部fab厂客户端进行量产验证 ，供应链i线物镜系统配套价值量从300w提升至500-600w。 上海微电子 SSA600/20系列是目前国内最先进、也是唯一可量产的前道光刻机， 分辨率达到90nm 。主要用于成熟制程（如90nm及以上节点）的芯片制造。 SMEE正在全力攻关 28nm节点的沉浸式（ArF液浸）光刻机， 这是当前国产光刻机技术攻关的 核心目标 。 根据公开报道和行业消息，28nm光刻机的研发已进入后期阶段， 核心子系统取得突破，样机组装和测试正在进行中 。官方曾提出目标是在 2024-2025年完成首台交 付 （实际进度可能受测试验证、良率提升等因素影响）。 国内XX装备集团 IC前道光刻机： 聚焦365nm i-line光刻机（分辨率约0.35μm），用于功率半导体、MEMS等特殊工艺。同时， 正在推进KrF光刻机（248nm）研发，目标突破55nm 节点。 新凯来 来源：《新凯来： " 中国版阿斯麦 " 改 ...