又一高端光刻胶（KrF/ArF）项目验收

【DT新材料】 获悉，近日，关于 杭州翰亚微电子科技有限公司 高档光刻胶新材料项目（一期）在相关网站验收公示。 据悉，该项目投资10150万元，建设年产3吨高档光刻胶新材料（一期），于2024年12月竣工，2025年1月开始调试， 实际2.62吨高档光刻胶新材料先行验收，包 括KrF光刻胶材料2.5t/a,ArF光刻胶材料0.5t/a。 资料显示， 杭州翰亚微电子科技有限公司 于2023年6月在杭州市钱塘区成立，注资 625万元， 目前 已完成A轮融资 。公司 致力于发展成为国内首个具备商业量 产能力的高端深紫外光刻胶KrF(248nm)/ArF(193nm)核心树脂材料以及下一代EUV(13nm)极紫外光刻胶树脂材料的高科 技生产企业。 2025"新塑奖"评选颁奖盛典 | 七大论坛 光刻胶又称光致抗蚀剂，组成部分包括：光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂，通过紫外光、电子束、离子束、X射线等 的照射或辐射等光化学反应，经曝光、显影等光刻工序，将所需要的微细图形从光罩（掩模版）转移到待加工基片上。 按曝光波长来看，半导体光刻胶又可分为g线（436nm）、i线（365nm），K ...