佳能时隔21年开设新光刻机工厂!

国芯网[原:中国半导体论坛] 振兴国产半导体产业！ 不拘中国、 放眼世界 ！ 关注 世界半导体论坛 ↓ ↓ ↓ 8月5日消息，据日媒报道，佳能在当地时间7月30日为一家位于栃木县宇都宫市的半导体光 刻设备工厂举行开业仪式，这也是 佳能时隔 21 年开设的首家新光刻机厂 。 佳能宇都宫工厂总建筑面积为 67518 平方米，总投资额约 500 亿日元，投产后佳能的 光刻 设备产能将相较 2021 年翻倍 。该工厂将于今年 9 月启动最初生产，明后年补充镜头加工制 造能力。 加群步骤： 佳能宇都宫工厂不制造 EUV、ArF (i) 等较为先进的光刻设备，而 是聚焦 i 线、KrF 等成熟 光源平台 。AI 兴起带来的后端先进封装需求日益攀升，而这正是传统光刻机的用武之地。此 外，宇都宫工厂也将制造 NIL 纳米压印图案化系统。 END 半导体公众号推荐 半导体论坛百万微信群 有偿新闻爆料 请添加 微信 第一步：扫描下方二维码，关注国芯网微信公众号。 第二步：在公众号里面回复"加群"，按照提示操作即可。 文章内容整理自网络，如有侵权请联系沟通 投稿 或 商务 ...