国产掩膜版2.0突围：打破28nm封锁，百亿替代市场自主可控（附PPT报告）

点击 最 下方 关注《材料汇》 ， 点击"❤"和" "并分享 添加 小编微信 ，寻 志同道合 的你 延伸阅读： 原子级精度之战：掩膜版上的5纳米生死线与国产替代突围战 【小编有话说】 光刻机被誉为半导体工业的"皇冠"，而 掩膜版则是这顶皇冠上不可或缺的"蓝图"，是半导体产业的"卖水人"与"能力放大器"，其技术壁垒之高、行 业地位之关键，使其成为国产半导体链条中亟待补强的核心环节 。当前，以清溢光电、路维光电、龙图光罩为代表的国内龙头，正 从平板显示领域的技术积累， 向半导体130nm、90nm乃至28nm等高端节点发起攻坚 ，新产能落地与技术迭代正在形成共振。 【投资逻辑 】 这是一个 兼具高壁垒、高弹性、强α的赛道 。 投资于此，不仅是投资于半导体材料领域一个百亿规模的国产替代故事，更是投资于那些有能力突破 技术封锁、伴随中国晶圆产能扩张而确定性成长的隐形冠军。 正文 目录 掩膜版生产具有较高的技术壁垒 掩膜版市场广阔且国产渗透率较低 端掩膜版需要更先进设备和材料配套 投资建议 风 应提示 谱仔细阅读在本报告尾部的重要法律声明 1.1 光刻工艺是半导体制造核心流程 华 发 集 团 控 股 公 司 半导体晶圆 ...