Workflow
液冷加速度-系列-趋势篇-三大指标推动液冷加速渗透
2024-11-28 07:07

"液冷加速度"系列 - 趋势篇:三大指标推动液冷加速渗透 20241127 摘要 • 近年来,GPU 芯片功耗大幅提升,例如 H200 功耗达 700 瓦,D200 甚至达 1,000 瓦,远超传统 CPU,导致单机柜功耗激增,对数据中心建设带来巨 大挑战。 • 高性能 GPU 服务器功耗显著增加,例如 H100 服务器功耗达 10.2 千瓦,B200 超过 14 千瓦,传统风冷机柜已无法满足需求,20 千瓦成为风冷和液冷的 分界线。 • PUE 指标是数据中心绿色低碳发展的重要指标,国家政策要求新建大型数 据中心 PUE 降至 1.25 以内,而液冷技术能有效降低 PUE 至 1.2 以下,满 足政策要求。 • 液冷技术在资本支出方面具有优势,虽然初期散热系统成本增加,但电器、 装修及土建成本降低,单位 IT 千瓦成本下降,且更容易获得政策审批。 • 液冷技术在运行成本方面也更具优势,其 OPEX 显著低于风冷,综合 TCO 分析显示,板式液冷在单机柜 30 千瓦项目中优势明显,浸没式液冷在使 用国产氟化液时与风冷持平。 • 液冷技术渗透加速主要源于三个因素:高性能 GPU 带来的高功耗需求;国 家绿色低碳 ...