国产突破GAA封锁，DUV光刻机实现7纳米，3纳米，ALD或成唯一选择

薄膜沉积是指在基底上沉积特定材料形成薄膜，使之具有光学、电学等方面的特殊性能。 ALD技术是一种特殊的真空薄膜沉积方法，具有较高的技术壁垒。通过ALD镀膜设备可以 将物质以单原子层的形式一层一层沉积在基底表面，每镀膜一次/层为一个原子层，根据原 子特性，镀膜10次/层约为1nm。从半导体薄膜沉积设备的细分市场上来看，根据Gartner统 计，2020年全球半导体薄膜沉积设备中PECVD、PVD、ALD设备的市场规模占比分别为 34%、21%和12.8%。 曾任：ALD发明人公司PICOSUN（派科森）中国区总经理 现任：无锡邑文电子科技有限公司副总经理 更多一手调研纪要和研报数据加V：shuinu9870 芯片揭秘的粉丝朋友们大家好，我和你们一样也是芯片揭秘的粉丝，很高兴能够接受幻实 的采访。 叶总是我们半导体行业非常资深的从业人员，而且所在的公司做的产品非常高精尖，听说 还把我们栏目的内容用于教学，收到这样的反馈我也很开心。 更多一手调研纪要和研报数据加V：shuinu9870 2003年，我回到国内发展，那时候刚好LED非常火热，所以我加入了LED芯片行业。大概 在2016年的时候，芬兰的派克森公司（Pi ...