光刻技术，走下 “神坛”
Tai Mei Ti A P P·2025-06-24 11:14
文 | 半导体产业纵横，作者 | 丰宁 "光刻将不再那么重要。"这句话一出便在业界引起巨大争议，这句话来源于英特尔的一位高管。 光刻机，向来被视为半导体制造的命脉。但近期多家芯片巨头释放的信息显示，未来光刻技术可能不再 是唯一选择，即便是很难抢到的High-NA EUV，也多处于"闲置"状态。 High-NA EUV光刻机，面临滞销 去年，High-NA EUV 热度很高。 ASML官网显示，其组装了两个TWINSCAN EXE:5000高数值孔径光刻系统。其中一个由ASM与imec合 作开发，将于2024年安装在ASML与imec的联合实验室中，预计2025年投入量产。另一个由英特尔在 2018年订购，2023 年 12 月，ASML正式向英特尔交付了首个High-NA EUV 光刻系统——TWINSCAN EXE:5000的首批模块。 2024 年初，这台光刻机主要组件运抵英特尔；11 月，台积电称年底前会收到 ASML 最先进的High-NA EUV光刻机。2025 年 3 月，三星在韩国华城园区引入首台 ASML 造的 TWINSCAN EXE:5000 ，成为英 特尔、台积电之后第三家购入的半导体厂 ...