“假光刻机”拟5亿收购真光刻机，苏大维格连亏四年再谋跨界并购 ｜并购一线

图片系AI生成 深陷连续亏损泥潭的"光刻机概念股"苏大维格（300331.SZ），试图通过一笔关键收购扭转颓势。9月1日晚间，公司宣布拟以不超过5.1亿元现金，收购主营 半导体光掩模缺陷检测设备的常州维普半导体不超过51%股权，谋求控股。 这笔交易若成功，或使长期因"真假光刻机"争议缠身的苏大维格，真正切入国产半导体核心设备的前沿阵地。 常州维普整体估值暂定为不超过10亿元，本次交易对价预计不超过5.10亿元。 常州维普部分主要产品 常州维普官网显示，其成立于2016年，是半导体制造领域自动光学检测设备制造商，VPTEK的解决方案可满足苛刻的半导体晶圆、半导体掩模制造过程中 的的缺陷检测，产品应用于泛半导体、CMOS图像传感器、MEMS和 RF领域，服务于行业领先的FAB、IDM、OSAT和代工厂。 常州维普是国内少数在半导体光掩模缺陷检测设备领域已实现规模化量产的企业，苏大维格表示，此举意在增强公司在直写光刻领域的研发实力，加快国产 替代的进程。 需要注意的是，同业光掩模板块上市公司业绩一路长虹，产能供不应求，这个成立仅9年、估值10亿就"卖身"的半导体检测设备"新秀"，做出的业绩承诺是 三年2.4亿净利润 ...