冠石科技：目前40nm掩模板处于送样验证期

此外，光掩膜版制造项目建成投产后，公司将成为国内技术能力先进的独立光掩膜版生产企业，可填补国内先进制程光罩空白，打破国外高端光掩膜版的垄 断局面，提高我国半导体光掩膜产业的安全和可控性。 冠石科技称，宁波公司光掩膜版项目半导体光掩膜版技术节点锁定在350-28nm（其中以45-28nm为主），此布局可加速公司在高精度、低线宽半导体光掩膜 版领域的进口替代进程，填补国内中高端集成电路半导体芯片用光掩膜版的空白。 （校对/黄仁贵） 9月12日，冠石科技在业绩说明会上表示，目前40nm掩模板处于送样验证期，整体验证周期约在6-9个月。 被问及光掩膜项目的进展时，冠石科技表示，根据关键设备的交期，本项目建设周期设定为60个月，建成达产后，将具备年产12,450片半导体光掩膜版的能 力。公司的专业团队主要成员在半导体光掩膜版领域拥有丰富的技术研发经验、生产管理经验及行业资源。公司将继续按照已有的工作计划，积极推进各项 生产工作。 ...