日本专家直言：中国永远造不出合格光刻胶？国产突破正在改写规则

近日，日本半导体材料界抛出一则极具争议的论断——中国再多的新材料实验室，也造不出一瓶能在我们实验室 达标的高端光刻胶。这番带着技术傲慢的言论，在全球半导体产业圈引发热议，既刺痛了国产芯片人的神经，也 再次揭开了中日在半导体核心材料领域的博弈序幕。这场围绕光刻胶的较量，早已超越单纯的技术比拼，成为大 国产业话语权的关键博弈。 在技术封锁与生态壁垒的双重夹击下，中国光刻胶产业曾长期陷入 "卡脖子" 困境。 数据显示，此前中国光刻胶国产化率不足 5%，高端领域更是几乎完全依赖日本进口。尤其是用于 7nm 及以下先 进制程的 EUV 光刻胶，长期被日本企业独家垄断，成为制约中国先进芯片制造的关键瓶颈。 日本专家的论断，正是抓住了这一现实 —— 光刻胶不是简单的化学混合产物，而是需要兼顾性能稳定性、工艺适 配性和批量生产一致性的复杂系统工程，中国实验室的单点突破，很难快速转化为具备市场竞争力的成熟产品。 面对封锁，中国从未坐以待毙，而是以单点突破 + 体系构建的双路径发起反击。 国家层面早已将光刻胶纳入半导体核心材料攻关重点，通过资金扶持、标准制定和产研协同，为国产替代铺路。 企业端，南大光电、容大感光、彤程新材等本土 ...