Semicon启示：新品密集发布，国产化持续提升

科技 Semicon 启示：新品密集发布，国产 化持续提升 华泰研究 2025 年 3 月 31 日│中国内地 动态点评 半导体设备国产化率持续提升，上市/非上市设备商持续推进核心设备布局 3 月 26 日-28 日 Semicon 2025 于上海召开，会议上，我们观察到 1）半导 体设备商北方华创、中微公司、拓荆科技等积极推出离子注入、刻蚀、沉积 等新产品，持续扩张国产设备版图；2）非上市公司中，新凯来关注度较高， 新凯来在本次 Semicon 发布包括外延沉积设备 EPI（峨眉山）、原子层沉积 设备 ALD（阿里山）、物理气相沉积设备 PVD（普陀山）、刻蚀设备 ETCH （武夷山）、薄膜沉积设备 CVD（长白山）等数十款新品。新凯来的参与或 对半导体设备行业供给格局有一定影响，根据 Gartner 数据，刻蚀、薄膜沉 积、离子注入、光刻与量检测等核心设备在制程及细分品类仍有广阔提升空 间，我们看好设备行业国产化率提升以及对上游设备零部件的拉动作用。 下游扩产需求旺盛，设备厂全年展望乐观 展望 2025 年，我们认为 DeepSeek 等开源大模型有望进一步带动国产先进 制程需求，逻辑与存储芯片厂商先进 ...