美国，拟对日本光刻胶下手！

政策成为新变因，EUV成本压力首要因素 报告研究指出，若美国对来自日本的EUV与ArF光刻胶课征10～25%关税，将导致进口价格上涨10～ 24%，以目前EUV光刻胶报价每加仑1500美元计算，一旦课税25%，最终成本将在2025年增加近400 美元。 申请入围"中国IC独角兽" 半导体高质量发展创新成果征集 然而，EUV光刻胶具备高技术导向与使用环境极为严格的要求，无法轻易替代，因为即使关税阻碍成本 攀升，包括台积电、英特尔、三星等先进晶圆制造商仍需依赖日系供应商的安全出货，才能确保先进制 造进度的良率与量产进度。目前面临着「被迫接受高成本」的现实困境。 当全球半导体先进制造进程迈向2nm竞速阶段，EUV（极紫外光）光刻胶无疑是最核心、也最难取代 的一环， 近期美国针对日系高阶材料拟增征进口关税， 无异于向供应链竞赛发起变数，也为材料势力 版图带来潜在重构契机。 EUV光阻技术主题高吸光率、低缺陷密度与高精密选择比等物理特性，加上验证期长、量产入口高，市 场长期受JSR、东京应化、信越化学三大日厂垄断，市占率超过九成。 美系大厂如杜邦与陶氏虽然现 在ArF、KrF保有市占，但在EUV该领域几乎无法与日厂抗衡 ...