芯片巨头，外包重要业务！

如果您希望可以时常见面，欢迎标星收藏哦~ 来源：内容 编译自 thelec 。 光掩模根据光源的波长分为几种类型。 i-line使用波长为365nm，用于制作简单结构电路。氟化 氪（KrF，248nm）用于中等分辨率的一般半导体加工。氟化氩（ArF，193 nm）是一种高分辨 率光源，可以实现更精确的图案并用于更精细的工艺。极紫外 (EUV，13.5 nm) 是实现超精细图 案的最新技术，对于最精细的先进工艺至关重要。 据悉，三星电子计划将通过此次i线和KrF级光掩模外包获得的内部资源集中用于ArF和EUV光掩 模的生产。采取这一措施似乎是因为更精细工艺中使用的ArF和尖端EUV光掩模与半导体技术竞 争力直接相关。 由于半导体工艺的微型化，使用的光掩模数量不断增加。对于逻辑半导体，随着技术从10nm缩 小到1.75nm，使用的掩模数量从67个增加到78个。DRAM使用的掩模数量也从过去的30到40个 大幅增加到最近的60多个。这是因为随着多重图案技术的普及，对掩模的需求也随之增加。 业界估计，去年韩国光掩模市场规模约为7000亿韩元左右。韩国光掩模生产企业产能已饱和90% 以上。随着中国无晶圆厂需求持续增加， ...