芯片刻蚀，迎来巨变

如果您希望可以时常见面，欢迎标星收藏哦~ 想象一下，尝试在指甲大小的块体上雕刻出一个微小而复杂的雕塑，一遍又一遍，数十亿 次，几乎没有出错的余地。 芯片制造商在硅片上蚀刻复杂的图案，制造出驱动我们周围大多数电子设备和技术的半导 体，正是如此。随着我们要求更小的设备拥有更高的功率和速度，以极高的精度雕刻这些图 案的需求变得越来越迫切，也越来越具有挑战性。 为了满足半导体生产日益增长的精度标准，一个研究团队最近推出了一项名为 DirectDrive 的突破性技术，该技术为制造计算机芯片的等离子蚀刻工艺带来了前所未有的精度。这项创 新有望支持下一代电子产品的开发，尤其是用于人工智能系统、需要高度紧凑和超高速电路 的电子产品。 从厨房到实验室 DirectDrive 并非一周或一个月研究的成果，而是耗时 20 年才成型。早在 2006 年，加州大学洛 杉矶分校 (UCLA) 工程师 Patrick Pribyl 就提出了一个想法，即在芯片制造蚀刻过程中更好地控 制等离子体。 Pribyl 设计了一种装置，可以快速切换驱动等离子体的射频 (RF) 能量，从而实现更精细的蚀刻控 制。为了测试他的想法，他还在自家厨房里搭建 ...