光刻机核心技术与国产替代分析（附国内光刻机企业清单）

点击 最 下方 关注《材料汇》 ， 点击"❤"和" "并分享 添加 小编微信 ，寻 志同道合 的你 正文 行业|深度|研究报告 2025年7月14日 光刻机行业深度:核心技术、竞争格局、国 产 替代及相关公司深度梳理 光刻机是芯片制程核心设备。光刻工艺是对光刻胶进行曝光和显影形成三维光刻胶图形的过程,直接决 定了集成电路制造的微细化水平。全球晶圆厂设备开支保持强劲,光刻机需求持续提升。目前 ASML、 Nikon 和 Canon 长期占据主要市场,ASML 龙头地位稳固,光刻机国产化需求迫切。我国光刻技术与全 球先进水平存在较大差距,大基金三期将重点扶持本土企业和关键技术瓶颈领域的项目,国内光刻机相 关公司有望受益。 围绕光刻机行业,下面我们从光刻机相关原理、核心技术与部件、发展现状、驱动因素、国产替代相关 情况及相关公司等方面进行深度梳理,希望帮助大家更多了解光刻机。 目录 | 一、光刻机概述 | | --- | | 二、光刻机核心技术及市场空间 | | 三、光刻机市场格局分析 | | 四、光刻机发展现状及驱动因素 | | 五、光刻机国产替代势在必行 | | 六、国内相关公司 ··············· ...