中国光刻机，落后20年？

如果您希望可以时常见面，欢迎标星收藏哦~ 来 源 ：内容 编译自 wccftech 。 投资银行高盛认为，中国光刻机公司至少落后美国同行20年。光刻技术是半导体制造的几个环节 之一，也是阻碍中国制造高端芯片的唯一瓶颈。最先进的光刻机由荷兰公司ASML制造，由于其依 赖美国原产的零部件，美国政府有权限制其对华销售。 为遵守国际出口管制规范「瓦圣那协议」(Wassenaar Arrangement)，ASML从未将EUV设备出口 至中国。 美国政府正在对ASML施压，希望该公司不要再为贩售至中国的先进DUV系统提供维修服务，以 符合目前对中国半导体业的制裁行动。然而，荷兰政府尚未同意美方要求。 ASML希望保留售中 设备的控制权、以免敏感资讯外流，倘若中国企业接管维修工作，将无法保证敏感资讯是否泄漏。 点这里加关注，锁定更多原创内容 *免责声明：文章内容系作者个人观点，半导体芯闻转载仅为了传达一种不同的观点，不代表半导体芯闻对该 观点赞同或支持，如果有任何异议，欢迎联系我们。 推荐阅读 10万亿，投向半导体 芯片巨头，市值大跌 黄仁勋：HBM是个技术奇迹 Jim Keller：RISC-V一定会胜出 光刻是芯片制 ...