比EUV更强！ 美国研发X光刻机挑战ASML！

国芯网[原:中国半导体论坛] 振兴国产半导体产业！ 不拘中国、 放眼世界 ！ 关注 世界半导体论坛 ↓ ↓ ↓ 10月30日消息，美国新创光刻设备厂商Substrate宣布， 他们已开发出一款全新的光刻机， 有能力与全球光刻机龙头大厂——荷兰ASML最先进的每台售价接近4亿美元的High NA EUV 光刻机竞争 。 这家公司名为Substrate，他们的终极目标是在美国建立晶圆代工业务，挑战台积电的地位，但是现在他 们首先做的是研发新型的光刻机，挑战ASML的地位。 因为当前的先进工艺使用EUV光刻机成本太高，现在的NA 0.33的EUV光刻机售价都要2亿美元左右， NA 0.55的新一代EUV光刻机要4亿美元，一座先进工艺的晶圆厂投资高达150亿美元。 因此Substrate公司的突破点是研发出了基于X光的光刻机，使用粒子加速器实现了波长更短的光源，而 且成本比现有技术降低了一半。 该公司创始人James Proud表示，他们的光刻机最终可以将先进晶圆的生产成本从预估的10万美元降低 到1万美元左右，目标是在2028年量产，能让美国的芯片生产与中国生产的成本相竞争。 该公司以10亿美元的估值获得了1亿美元 ...