磷化铟，火了！

公众号记得加星标⭐️，第一时间看推送不会错过。 黄仁勋曾断言："未来十年，算力的天花板将由光传输效率决定。"这句话不仅揭示了光互连技术 在未来算力竞赛中的核心地位，也点燃了一个曾经小众的半导体材料——磷化铟（InP）的市场 热情。 当前，随着AI大模型训练进入万卡集群时代，数据中心内部数据传输需求呈指数级增长，全球 AI基础设施支出预计2026年突破万亿美元，推动数据中心光模块向800G/1.6T及以上速率加速 迭代。 在这股浪潮中，磷化铟材料凭借其独特性能成为光通信革命的核心支撑。全球头部磷化铟供应商 订单已排满至2026年，2025年全球器件需求达200万片，而产能仅60万片，近70%的供需缺口持 续推高产业景气度。 这个曾被视为小众的材料，如今正在成为半导体行业的新焦点。 为何是磷化铟？ 在半导体领域，材料选择往往决定了技术路线的边界。 传统硅材料虽工艺成熟、成本低廉，但其物理特性在高频高速应用场景中逐渐显露短板。磷化铟作为 第二代III-V族化合物半导体的代表，在这场技术演进中脱颖而出。 磷化铟拥有硅材料10倍以上的电子迁移率（高达 1.2×10 4 cm²/V·s），同时具备高饱和电子漂移速 度、优 ...