芯片设备巨头，全面备战2nm

如果您希望可以时常见面，欢迎标星收藏哦~ 为了因应 2 纳米及更先进节点，应用材料（下称「应材」）近日推出全新的沉积、蚀刻及材料改质系 统，透过对晶体管进行原子尺度改良，从而大幅提升人工智能（AI）的运算能力。 采环绕式闸极（GAA）电晶体是半导体产业的重要转折，也是实现更高能源效率，以支撑更强大 AI晶片运算所需的关键技术。随着2奈米世代环绕式闸极晶片今年迈入量产，应材同步推出全新的 材料创新技术，进一步强化埃米节点的新一代环绕式闸极电晶体效能。 应材半导体产品事业群总裁帕布‧若杰（Prabu Raja）表示，AI快速发展正将运算效能推向极限， 而运算技术的突破始于晶体管。为了在埃米时代持续领先，应材致力于推动材料工程突破，提升节 能运算表现。这些全新系统不仅延续应材长期以来在晶体管与布线关键变革领域的领导地位，同时 协助客户加速推进芯片发展蓝图，以因应AI飞速演进的步伐。 新处理系统实现环绕式闸极晶体管纳米片的精准工程 应材近日推出Centris™ Sym3™ Z Magnum™蚀刻系统，供埃米级3D沟槽轮廓控制，增加硅纳米 片的均匀性与效能，为Sym3 Z系列的最新产品。Sym3 Z平台将脉冲电压技术（ ...