全球及中国光刻胶行业研究及十五五规划分析报告

光刻胶是利用光化学反应经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质，由成膜 剂、光敏剂、溶剂和添加剂等主要化学品成分和其他助剂组成，在紫外光、深紫外光、电子束、离子束等光照或辐 射下，其溶解度发生变化，经适当溶剂处理，溶去可溶性部分，最终得到所需图像。其被广泛应用于光电信息产业 的微细图形线路的加工制作，是微细加工技术的关键性材料。在光刻工艺中，光刻胶被均匀涂布在硅片、玻璃和金 属等不同的衬底上，经曝光、显影和蚀刻等工序将掩膜版上的图形转移到薄膜上，形成与掩膜版完全对应的几何图 形。 光刻胶在 PCB 、 LCD 和半导体领域具有重要作用：在 PCB 领域，光刻胶主要包括干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成 像阻焊油墨。在 LCD 领域，彩色光刻胶和黑色光刻胶是制备彩色滤光片的核心材料，触摸屏光刻胶用于在玻璃基板 上沉积 ITO 制作触摸电极； TFT-LCD 光刻胶用于液晶面板的前段 Array 制程中微细图形的加工。在半导体领域，光 刻工艺是芯片制造最核心的工艺，成本约为整个芯片制造工艺的，光刻胶的质量和性能是影响芯片性能、成品率及 可靠性的关键因素。根据曝光波长不同，目前光刻胶又可分为普 ...