远程等离子体源（ Remote Plasma Source ， RPS ）是一种用于产生等离子体的装置，它通常被用于在真空环境中进行表面 处理、材料改性、薄膜沉积等工艺。 RPS 通过将气体输送到装置中，利用电场或者磁场产生等离子体，然后将等离子体传 输到需要处理的表面区域。与传统等离子体源不同的是， RPS 通常不直接接触要处理的表面，而是在一定距离之外产生等 离子体，并将等离子体输送到目标表面，因此被称为"远程等离子体源"。 RPS 的主要优点在于它可以实现对表面的均匀处理，而且对于一些敏感的表面或者材料，由于远离等离子体，因此减少了 对表面的热和化学损伤。此外， RPS 可以被集成到真空处理系统中，使得表面处理和材料改性的工艺更加灵活和高效。 目前，远程等离子体源（ Remote Plasma Source, RPS ）的应用领域包括半导体、光电子器件制造、平板显示、精密表面处 理等多个行业。由于其能够在不直接接触工件的情况下产生高密度、高均匀性的活性等离子体，极大地降低了工件污染和 损伤风险， RPS 主要用于半导体制造的关键工艺环节，从而提高器件良率和性能稳定性。 远程等离子体源行业目前现状分析 0 ...