在芯片迈入亚纳米时代之际，半导体制造迎来了新的大考。其中，芯片制造过程中的过滤和纯化工艺 更成为了重中之重。 本文篇幅较长，预计阅读时间 10-15 分钟 因为对于半导体设备而言，洁净程度很大意义上决定了利用效率、运行性能和生产成本，污染轻则影 响生产效率，重则降低芯片良率，也正因此，过滤贯穿了整个芯片制造链路。 目前，不论是极紫外光刻机的光学系统，还是光刻胶的纳米级涂布，抑或是CMP研磨液的均匀度控 制，每个环节都对过滤技术提出了新的要求，可以说高精度过滤技术正成为决定芯片良率的隐形战 场。 而在这一战场中，过滤、分离和纯化解决方案的专家——颇尔公司（Pall corporation）正在服务于 更多半导体企业，助力芯片的下一步发展。 近日，半导体行业观察与颇尔中国总经理陈淮、颇尔中国微电子事业部总负责人陈磊在SEMICON China期间进行了深入交流，围绕着颇尔所展出的四款重磅新品，探讨了颇尔如何依托多点位生产布 局与尖端过滤技术，精准应对芯片制造中的良率挑战。 打造本土化"铁三角" 近两年时间，颇尔在亚太地区出手频频。 2022年，颇尔耗资1100万美元，进一步拓展北京工厂的微电子产品品类与产能；20 ...