同步亮相的Primo Menova12寸ICP单腔刻蚀设备，专注于金属刻蚀领域，尤其擅长金属Al线、Al块刻 蚀，广泛适用于功率半导体、存储器件及先进逻辑芯片制造，是晶圆厂金属化工艺的核心设备。今年6 月，该设备的全球首台机已付运到客户认证，进展顺利，并和更多的客户展开合作。 在此次新品发布中，中微公司推出的12英寸原子层沉积产品Preforma Uniflash金属栅系列，成为薄膜沉 积领域的一大亮点。该系列涵盖Preforma Uniflash TiN、Preforma Uniflash TiAI及Preforma Uniflash TaN 三大产品，能够满足先进逻辑与先进存储器件在金属栅方面的应用需求。 中微公司在新兴技术领域的布局同样受到关注。据公司相关负责人介绍，公司发布的全球首款双腔减压 外延设备PRIMIO Epita RP，凭借独特设计成为行业焦点。作为目前市场上独有的双腔设计外延减压设 备，其反应腔体积为全球最小，且可灵活配置多至6个反应腔，在显著降低生产成本与化学品消耗的同 时，实现了高生产效率。该设备搭载拥有完全自主知识产权的双腔设计、多层独立控制气体分区，以及 具备多个径向调节能力的温 ...