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未知出处-英伟达新版blackwell流片结果
NVDANvidia(NVDA) 未知机构·2024-10-09 01:07

以下是专家观点: Patrick:8 月份英伟达修改过光罩,进了一次新的 super hot run,听过 10 月中旬可能出流片 结果,目前您是否有听说相关信息,效果如何? 专家:目前听闻流片进度相对顺利,最终需要大量跑来进行批量测试,得到统计数据,再来 确定良率是否合格,当然目前尚未进行至此阶段,可能下个阶段就进行。目前看,光罩改良 后,设计层面电路、线路改良后效果目测较好。当然上次听闻不仅仅是光罩问题,bridge die 设计在两个晶片 top 上这部分也有不顺利的情况,因此英伟达也和 TSMC 团队一起工作看如 何解决和改善,以让 2 个晶片中间的 top 更加顺利,减少频宽问题。关于 warpage,应该得 到一致,也选定了 TC 机器,可能是 K&S,大约 18 台,用于 CoWoS-L 的 Fluxless 制程,其 TC Fluxless 目前听说已经 qualified,所以应该不是 ASM。 另外,CoWoS wafer 的 forecast 预计在明年 Q3~Q4 翻倍,届时单 CoWoS-L 可能就达到每季度 10 万片。目前 CoWoS wafer 约 300k/年,明年可能翻倍至 ...