跟踪报告之五：公司发布化学清洗机新产品，浸没式Track设备导入及应用进展良好

公司研究 ——芯源微（688037.SH）跟踪报告之五 公司发布化学清洗机新产品，打造新的增长点。 2024 年 3 月 19 日芯源微发布 KCE 前道单片式化学清洗机，该款机台由公司上海临港子公司自主研发，具有 高工艺覆盖性、高稳定性、高洁净度、高产能、高智能化等多重优势，适用于薄 膜前后的清洗、干法蚀刻后清洗、离子注入灰化后清洗、CMP 后清洗等多种清 洗工艺，能够满足客户对于 UP Time、刻蚀一致性等稳定性指标的严苛要求。 同时，机台还充分借鉴了公司在前道 Track 及 Scrubber 等领域的成熟技术，通 过不断优化内部单元及整机设计，可有效确保机台内部微环境均匀稳定，并最大 程度压缩 chamber 空间，推出的高产能架构能够助力客户实现清洗效率的显著 提升。此外，机台还配备多项智能化功能，实现 AI 赋能。本次推出的前道单片 式化学清洗机新品，将有效弥补公司在前道单片式化学清洗领域的空白，实现 "物理+化学"清洗双覆盖，为公司打造新的业绩增长点。 在 2023 年前道晶圆厂扩产节奏有所放缓的情况下，公司前道 Track（涂胶显影 机）新签订单依然保持了较好的增长，实现了国内市占率的稳步提 ...