台积电：没到万不得已，不用新一代光刻机

如果您希望可以时常见面，欢迎标星收藏哦~ 来源：内容来自中时新闻网 。 荷兰阿斯麦（ASML）全新机台却让台积电望之却步！英媒指出，尽管艾司摩尔最新一代的高数值 孔径（High-NA）极紫外光（EUV）微影设备性能强大，但因这款机台单价高达4亿美元（约新台 币120亿元），台积电高层表示，目前「找不到非用不可的理由」，因此暂时没有计划在A14及其 后续制程中导入。 路透27日报导，这款先进机台价格逼近4亿美元，几乎是晶圆厂现有最昂贵设备的两倍。目前，各 家芯片制造商正在仔细评估，这款设备在曝光速度以及解析度上面的提升，是否真的符合如此高昂 的价格。 台积电技术开发资深副总经理张晓强表示，即便不使用High-NA EUV设备，A14制程仍能实现显 著的技术升级。 「因此，我们的技术团队将持续专注于微缩（scaling）效益的开发，并致力于延 长现有Low-NA EUV（低数值孔径极紫外光）微影设备的使用寿命。」 张晓强坦言：「只要我们能持续找到替代方案，就没有必要采用这款昂贵的设备。」事实上，早在 去年，张晓强就曾公开表示，他对High-NA EUV技术抱持肯定态度，但对其价格感到却步。 相较之下，台积电竞争对 ...