飞凯材料半导体光刻胶实现多方位突破

"宁波膜智信息科技有限公司"为势银（TrendBank）唯一工商注册实体及收款账户 光刻胶是光刻工艺的关键材料，其质量和性能与电子器件良品率、器件性能可靠性直接相关。 不过，由于 我国光刻胶产业起步较晚，长期以来发展相对缓慢，尤其在 半导体 光刻胶领域与国际先进水平 仍有着较大 技术差距。 且在当下还 存着美国无端关税、中日关系等地缘政治因素的负面影响，我国光刻胶国产化突破已成了 "亟事"。 近日， 飞凯材料 在互动平台公开披露半导体光刻胶领域的最新业务进展，公司在该领域的产品布局与商业化进程均取得显著突破，进一步完善 了国产半导体材料的供给能力。 据飞凯材料透露，其在半导体光刻胶领域的核心产品聚焦于i-line光刻胶及KrF光刻配套Barc材料。 其中，Barc材料作为光刻工艺中抑制衬底反射、提升图形精度的关键配套材料，能有效解决驻波效应等行业痛点，而i-line光刻胶则广泛应用于 功率芯片、先进封装等场景。相关产品也已成功实现稳定量产，且均顺利通过下游客户验证并投入实际应用。 从公布的财报数据显示，预计2025 年度，飞凯材料归属于上市公司股东的净利润同比增长42.07%至 84.69%，扣除非经常性损益 ...