光刻机，重大突破

如果您希望可以时常见面，欢迎标星收藏哦~ ASML Holding 的研究人员表示，他们找到了一种方法，可以提高关键芯片制造机中光源的功 率，到十年末，芯片产量将提高 50%，以帮助这家荷兰公司保持对新兴的美国和中国竞争对手的 优势。 ASML 是全球唯一一家生产商用极紫外光刻 (EUV) 设备的制造商，EUV 设备是台湾积体电路制 造股份有限公司、英特尔等芯片制造商生产先进计算芯片的关键工具。 "这不是什么花招，也不是我们为了证明它有效而短暂展示的东西，"ASML EUV 光源首席技术专 家 Michael Purvis 在一次采访中说道。 "这是一个能够在满足客户所有相同要求的前提下产生 1000 瓦功率的系统，"他在位于圣地亚哥附 近加州的公司工厂发表讲话时补充道。 主要优势在于，更强大的功率意味着每小时可以制造更多芯片，从而有助于降低每个芯片的成本。 芯片的印刷过程类似于拍照，即用极紫外光照射涂有特殊化学物质（称为光刻胶）的硅片。随着极 紫外光源功率的提升，芯片工厂所需的曝光时间也相应缩短。 "我们希望确保我们的客户能够以更低的成本继续使用 EUV 技术，"ASML NXE 系列 EUV 设备 执行副 ...