EUV光刻机大突破，技术全解密

目前一台最贵的EUV设备要价高达三亿到四亿美元（约台币九十四亿至一二五亿元），晶圆厂买来的 目的就是要生产更高效能的芯片，但为什么得花这么多钱去买这么昂贵的设备？原因就是芯片设计愈 来愈复杂，相同的面积得放入数百亿颗甚至千亿颗电晶体，意谓曝光在矽晶圆上的线宽愈做愈小，传 统光源已经「画不出来」。 公众号记得加星标⭐️，第一时间看推送不会错过。 全球微影设备龙头艾司摩尔（ASML）宣布，已找到方法强化芯片制造设备的光源功率，预计可在 2030年底前让芯片产量提升最多五成，凸显尽管美国和中国都想改变ASML几近独占地位，它仍与竞 争者保持极大技术差距，不仅其最大客户台积电是最大受益者，对于渴望取得更强大效率的AI两大关 键芯片、AI加速器和高频宽记忆体（HBM）厂商而言也是好消息。 ASML研究员发现方法，能将全球最先进的极紫外光（EUV）微影设备的光源功率，从现今的六百瓦 特提高至一千瓦特，最大好处是光源功率愈强，每小时能生产更多芯片，有助降低每颗芯片的成本。 芯片印制方法类似相片，用EUV光线照在涂有光阻剂的矽晶圆上；光源功率愈强，芯片曝光时间愈 短。 ASML宣布这项消息之所以引发半导体市场震撼，在于提升E ...