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中国科大以“自刻蚀”实现材料精密制备
Xin Lang Cai Jing· 2026-01-14 20:45
本网讯(记者 陈婉婉)记者1月15日凌晨从中国科学技术大学获悉,该校张树辰特任教授团队联合中外 学者,在新型半导体材料领域取得重要进展。团队首次在二维离子型软晶格材料中,实现了面内可编 程、原子级平整的"马赛克"式异质结可控构筑,为未来高性能发光和集成器件的研发开辟了全新路径。 相关成果于北京时间1月15日在线发表于国际权威学术期刊《自然》。 在半导体领域,能够在材料平面内横向精准构建异质结构,是探索新奇物性、研发新型器件及推动器件 微型化的关键。然而,以二维卤化物钙钛矿为代表的离子型软晶格半导体,其晶体结构柔软且不稳定, 传统光刻加工等技术往往因反应过于剧烈而破坏材料结构,难以实现高质量的横向异质集成。如何在此 类材料中实现高质量、可控外延的横向异质结精密加工,是该领域面临的重要科学难题。 (来源:安徽新闻网) 转自:安徽新闻网 "这种全新的加工方法。不是通过'拼接'不同材料,而是在同一块完整晶体中,引导它自身进行精密 的'自我组装'。"张树辰解释,"这意味着,未来我们有可能在一块极薄的材料上,直接'生长'出密集排 列的、能发出不同颜色光的微小像素点,为未来的高性能发光与显示器件的发展,提供一种全新的备选 ...