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国林科技:臭氧在ALD中作氧前驱体,与TMA等反应沉积单原子层氧化物薄膜
Zheng Quan Ri Bao
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2025-12-17 08:41
证券日报网讯 12月17日,国林科技在互动平台回答投资者提问时表示,二者核心差异是作用相反,且 均依托自限性循环:臭氧在ALD中作氧前驱体,与TMA等反应沉积单原子层氧化物薄膜;在ALE中作 氧化剂,氧化基底表面原子后剥离,实现单原子层刻蚀。 (文章来源:证券日报) ...
GUOLIN TECHNOLOGY(SZ:300786)
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