内容概况：半导体CVD设备是半导体产业链的"心脏"设备之一，其技术水平直接决定了芯片的性能、良 率和制造成本。随着半导体制造工艺向大尺寸晶圆发展，均匀的薄膜沉积对于保证整片晶圆上器件性能 的一致性至关重要，半导体CVD设备在这方面表现出色。与此同时，半导体CVD设备所形成的薄膜具 有良好的致密性和附着力，良好的致密性能够有效阻挡外界杂质的侵入，提高半导体器件的稳定性和可 靠性；而强附着力则确保薄膜在后续的加工和使用过程中不会轻易脱落，保障了器件的长期性能。近年 来，随着国内半导体市场的迅速崛起，特别是5G、物联网、人工智能等新兴技术的普及，国内对芯片 的需求量呈现出爆炸式的增长，推动了中国半导体CVD设备行业的快速发展。据统计，中国半导体 CVD设备行业市场规模从2015年的45.32亿元增长至2024年的524.56亿元，年复合增长率为31.27%。随 着摩尔定律的延续和先进封装、化合物半导体的兴起，半导体CVD设备将向高精度、低能耗、多功能 集成方向发展，而国产设备厂商的自主创新将成为中国半导体产业自主可控的关键环节。 相关上市企业：拓荆科技（688072）、北方华创（002371）、微导纳米（68814 ...