剥离抗蚀剂是一种用于微加工工艺的光刻胶。光刻胶是一种感光材料，用于在微电子和微机电系统 (MEMS) 制造过程中将图案转移到基 板上。 LOR 光刻胶通常用于剥离工艺，这是一种图案转移技术。在此工艺中，首先将一层 LOR 光刻胶涂覆到基板上。然后，光刻胶通 过图案化的掩模版曝光，使其选择性交联。显影后，去除光刻胶的曝光区域，留下图案层。剩余的图案化 LOR 光刻胶可作为后续工艺 步骤（例如蚀刻或材料沉积）的掩模。完成所需的工艺步骤后，可以使用溶剂轻松剥离 LOR 光刻胶，留下图案化的基板。 QYRESEARCH 剥离抗蚀剂全球市场总体规模 据 QYResearch 调研团队最新报告"全球剥离抗蚀剂市场报告 2025-2031 "显示，预计 2031 年全球剥离抗蚀剂市场规模将达到 5.6 亿美 元，未来几年年复合增长率 CAGR 为 8.6% 。 根据 QYResearch 头部企业研究中心调研，全球范围内剥离抗蚀剂生产商主要包括 Merck KGaA 、 Nagase ChemteX Corporation 、 Tokyo Ohka Kogyo 、 Kayaku Advanced Materials 、 J ...