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LPCVD(低压化学气相沉积)设备
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中微公司上半年营收同比增长43.88% 研发投入达14.92亿元
Zheng Quan Ri Bao Wang· 2025-08-28 13:44
本报讯(记者张文湘见习记者占健宇)8月28日晚,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称"中微公 司")发布2025年半年度报告。2025年上半年,公司实现营业收入49.61亿元,同比增长43.88%;实现归 母净利润7.06亿元,同比增长36.62%。同时,公司研发投入达14.92亿元,同比大幅增长53.7%,研发费 用占营收比重突破30%。 薄膜沉积设备方面,2025年上半年,公司LPCVD(低压化学气相沉积)和ALD(原子层沉积)设备销售收入 同比增长608.2%,成为业绩增长的新引擎。钨系列产品已全部通过关键存储客户端量产验证,并获批 量订单。同期,公司开发出应用于先进逻辑器件的金属栅系列产品:ALD(原子层沉积)氮化钛,ALD钛 铝,ALD氮化钽产品,已完成多个先进逻辑客户设备验证,在满足先进逻辑客户性能需求的同时,设 备的薄膜均一性,污染物控制和生产效率均达到世界先进水平。该系列设备已付运到先进逻辑客户端进 行验证,核准推进顺利。 同时,公司还在积极拓展泛半导体市场。其MOCVD(金属有机化合物化学气相沉积)设备在氮化镓基 LED(发光二极管)市场持续领先,并逐步拓展至碳化硅、氮化镓功率器件及 ...