光刻强度提升
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未知机构:国泰海通海外科技ASML业绩会要点短期有产能担忧长期光刻强度提升趋势明确-20260129
未知机构· 2026-01-29 02:05
但#ASML下游两大行业都处在历史级的高景气区间中,2026~2027的需求十分明确。 【国泰海通海外科技】ASML业绩会要点:短期有产能担忧,长期光刻强度提升趋势明确 ASML从盘前+6%至业绩会结束后的-2%,我们认为主要是两个担忧没有得到解决:对中国区指引依旧保守+没有给 出对产能爬坡的solid commitment。 但#ASML下游两大行业都处在历史级的高景气区间中,2026~2027的需求十分明确。 #2026年业绩取决于客户扩产进度、中国区收入 【国泰海通海外科技】ASML业绩会要点:短期有产能担忧,长期光刻强度提升趋势明确 ASML从盘前+6%至业绩会结束后的-2%,我们认为主要是两个担忧没有得到解决:对中国区指引依旧保守+没有给 出对产能爬坡的solid commitment。 #确认EUV光刻强度随节点而提升、长期趋势明确 1Dram方面,市场曾担心从6F2架构转向4F²架构可能导致EUV需求降低;但实际上 4F²结构更复杂,需要更先进的 光刻掩模,会同时增加浸润式 DUV 和 EUV 的光刻强度。 2代工方面,市场层担心N2、A16、A14等节点的EUV强度原地踏步;而ASML确认每一 ...